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hamanano靜電噴涂技術(shù)分析

發(fā)布時間:2023-11-15 點擊量:1214

hamanano靜電噴涂技術(shù)分析

使用高質(zhì)量靜電噴涂機將納米分散體等液體材料噴涂到工件上。

[特征]

? 形成納米顆粒而不團聚

? 廣泛適用于薄涂層

? 與絕緣基材兼容

? 可調(diào)節(jié)噴霧液滴尺寸

? 可調(diào)節(jié)噴霧節(jié)拍

? 可改裝至另一設(shè)備

? 獨立 可與設(shè)備一起操作

? 沉積可使用掩模形成圖案

? 可定制沉積范圍、計量泵、熱板等。

應(yīng)用實例:


● 電子顯微鏡觀察標本的制備

● 功能性薄膜的制造

● 化學傳感器制造

● 燃料電池電極、隔膜制造

● 二次電池電極的制造

● 發(fā)光面制造

● 用于質(zhì)譜分析的基質(zhì)涂層

● 使用Pd納米顆粒的化學鍍

● 合金及復合材料制造

● 生物傳感器制造

● 表面增強拉曼基板的制造

● 抗蝕劑材料的薄膜涂層

● 改善鏡頭反射率

● 電容器制造

● EMI/EMS 措施

● 細粉生產(chǎn)

破碎的圖像

樣品制備裝置(PDS-PS01)

image.png

(解釋)

 掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)或原子力顯微鏡(AFM)用于觀察納米材料,因此很難掌握單個材料的尺寸和形狀。
 “樣品制備裝置PDS-PS系列"可以以靜電噴霧形成的每個液滴含有1個或0個納米材料的濃度使用,從而制作不聚集的納米材料的觀察基板。填充樣品液的噴嘴部分(8μL)是一次性的,因此無需對噴嘴內(nèi)部進行耗時的清潔。合適的觀察基板包括Si基板和碳蒸鍍膜。


(構(gòu)成)
主機(霧化室及控制器一體)、噴嘴、吸引夾具、附件 可選項目
: 濃縮夾具

(基本規(guī)格)W320、D400、H520mm
?噴嘴支架:1 個 替換噴嘴:外徑 25、40μm
?施加電壓:DC6000V
?配備確定噴涂條件的測試區(qū)域

 ?用于移動工件以切換噴涂位置的電力驅(qū)動 配備載物臺
? 配備放大鏡和白色 LED,用于目視觀察靜電噴涂
? 配備監(jiān)控靜電噴涂過程中觀察到的噴涂電流的功能
? 使用按鈕和旋鈕進行手動操作 

破碎的圖像

靜電噴涂設(shè)備(PDS-D系列)

image.png

【解釋】

 該設(shè)備采用高質(zhì)量的靜電噴涂,將納米分散的液體或液體材料變成細小的液滴,并在工件上形成薄膜。由于噴霧液滴很小,肉眼觀察起來比較困難,所以我們配備了攝像頭和光源來觀察噴霧。還有觀察噴霧電流的功能(僅限 DC 模式),使您可以確定噴霧條件,同時根據(jù) PC 屏幕上的監(jiān)控值估計噴霧狀態(tài)。此外,所施加的電壓已被設(shè)計成能夠在絕緣基板上連續(xù)成膜。通過結(jié)合可選的加壓裝置,可以調(diào)節(jié)噴霧量以適應(yīng)生產(chǎn)率。

(構(gòu)成)靜電噴涂控制器、霧化室(噴嘴、光源、攝像頭、電流監(jiān)視器、成膜位置調(diào)整用XY電動平臺)、臺式電腦(附帶專用程序)、吸附夾具、配件可選項目:壓力單位、濃度夾具

(基本規(guī)格)

? 成膜范圍 50mm x 50mm 

? 施加電壓 ±5kV(兼容絕緣基材)

? 樣品容器 5mL

? 在 PC 屏幕上設(shè)置噴涂條件

? 在 PC 屏幕上監(jiān)控噴涂狀態(tài)

加壓靜電噴涂裝置(ES-C系列)

破碎的圖像

(解釋)

 該產(chǎn)品是一種靜電噴涂裝置,也利用噴嘴內(nèi)部的壓力。對于想要將使用靜電噴涂的液體材料噴涂工藝改造到制造過程中的用戶來說,它是理想的選擇。通過調(diào)節(jié)噴嘴內(nèi)的壓力水平,可以實現(xiàn)比傳統(tǒng)靜電噴涂更廣泛的噴涂速度(每單位時間的噴涂量)。該裝置由噴嘴、控制器和高壓分支箱組成,可通過按鈕和旋鈕輕松操作。還有一種與外部設(shè)備聯(lián)動的“外部模式",也可以與外部信號聯(lián)動。通過使用可選的簡易噴霧機構(gòu),您可以在固定噴嘴的情況下輕松進行噴霧實驗。

(零部件) 靜電噴涂控制器、噴嘴、吸料治具、配件

(基本規(guī)格)W430、D450、H200mm?噴嘴支架:1個、耐有機溶劑(聚四氟乙烯材質(zhì))?更換噴嘴:外徑10~200μm?施加電壓:最大DC 15kV?加壓壓力:Max0.2MPa(2atm) ) ) *安裝位置需要0.25MPa或更高的壓力源 ? 順序控制(按鈕、旋鈕操作) ? 附有緊急停止按鈕 ? 外部模式下可通過外部信號控制操作 ? 可選項目: 簡易噴射機構(gòu)


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